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一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤

關(guān)鍵詞 金剛石單晶 , 籽晶托盤|2015-05-05 09:05:07|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 申請?zhí)枺?01420738188.5申請人:常州寶頤金剛石科技有限公司發(fā)明人:史玉芬周學(xué)芹劉小利摘要:本
  申請?zhí)枺?01420738188.5

       申請人:常州寶頤金剛石科技有限公司

       發(fā)明人:史玉芬 周學(xué)芹 劉小利

       摘要: 本實用新型公開了一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,用于微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置的諧振腔腔體內(nèi),置于諧振腔腔體內(nèi)的基臺上,托盤的中心端面開設(shè)有凹坑,所述凹坑出口端與托盤端面所在水平面是由斜面過渡連接,所述凹坑大于等于1個,本實用新型是將托盤中心設(shè)計成一種凹坑,在金剛石生長過程中能夠降低電磁場的不連續(xù)性,抑制籽晶邊緣處的過快生長,提高金剛石單晶的品質(zhì)。

       主權(quán)利要求:1.一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特征在于:用于微波等離子體化學(xué)氣相沉積裝置的諧振腔腔體(1)內(nèi),置于諧振腔腔體內(nèi)的基臺(2)上,托盤(3)的中心端面開設(shè)有凹坑(4),所述凹坑(4)出口端與托盤(3)端面所在水平面是由斜面(5)過渡連接,所述凹坑(4)大于等于1個。

       2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述托盤(3)呈圓柱狀,且所述凹坑(4)為臺階孔。

       3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述凹坑(4)為1個時,位于托盤上端的中心部位。

       4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述凹坑(4)為多個時,對稱分布在托盤(3)上端的中心部位。

       5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述托盤(3)的直徑Φ為15~75mm,高度h1為10~80mm。

       6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述凹坑(4)形狀由兩種立體形狀組合而成,所述凹坑(4)的下部 和中部呈四方體狀,上部呈正四棱臺狀。

       7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:上部正四棱臺狀凹坑(4)的橫截面為上底面大下底面小的結(jié)構(gòu),其中 上底面邊長d2為4.5~13.5mm,下底面邊長與凹坑(4)中部四方體的底面邊長 大小相同,為3.5~12.5mm,深度h3為0.5~1mm。

       8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述凹坑(4)的底部四方體狀的邊長d1為3~12mm,深度h2為1~7mm。

       9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種用于生長金剛石單晶的新型籽晶托盤,其特 征在于:所述凹坑(4)中部四方體狀凹坑的底面邊長為3.5~12.5mm,深度h3 為0.5~1mm。 
 

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