申請號：201620224291.7
　　申請人：中芯國際集成電路制造（北京）有限公司 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
　　發明人：唐強 馬智勇

　　摘要：本實用新型提供一種研磨墊調整器，所述研磨墊調整器至少包括：調整盤；所述調整盤表面設有金剛石顆粒及軟毛刷；所述軟毛刷自所述調整盤中心的位置向外分布，在所述調整盤表面形成軟毛刷分布區域；所述金剛石顆粒位于所述軟毛刷分布區域的外圍。本實用新型通過在軟毛刷分布區域外圍設置若干個金剛石顆粒分布區域，可以在調整的過程中提高研磨墊邊緣與中心平整度的均勻性，進而提高拋光的速率和效果。 　　主權利要求：1.一種研磨墊調整器，其特征在于，所述研磨墊調整器至少包括：調整盤；所述調整盤表面設有金剛石顆粒及軟毛刷；所述軟毛刷自所述調整盤中心的位置向外分布，在所述調整盤表面形成軟毛刷分布區域；所述金剛石顆粒位于所述軟毛刷分布區域的外圍。
　　2.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述調整盤表面還設有粘附層，所述金剛石顆粒通過所述粘附層粘附于所述調整盤表面。
　　3.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述調整盤為金剛石圓盤。
　　4.根據權利要求3所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述調整盤的直徑為12cm～13cm。
　　5.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述軟毛刷的數量為120個～130個。
　　6.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：相鄰所述軟毛刷的間距為2.5mm～3.5mm。
　　7.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述金剛石顆粒在所述軟毛刷分布區域的外圍形成若干個金剛石顆粒分布區域，所述金剛石顆粒分布區域沿所述調整盤的周向 間隔分布。
　　8.根據權利要求7所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述金剛石顆粒分布區域的數量為30個～35個。
　　9.根據權利要求7所述的研磨墊調整器，其特征在于：每個所述金剛石顆粒分布區域內，相鄰所述金剛石顆粒的間距為150μm～180μm。
　　10.根據權利要求7所述的研磨墊調整器，其特征在于：相鄰所述金剛石顆粒分布區域的間距為2mm～3mm。
　　11.根據權利要求1所述的研磨墊調整器，其特征在于：所述金剛石顆粒在所述金剛石顆粒分布區域內均勻分布，所述軟毛刷在所述軟毛刷分布區域內均勻分布。