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鄭州華晶金剛石股份有限公司

單晶金剛石技術將首次應用于化學機械拋光中

關鍵詞 單晶金剛石|2024-09-13 13:41:21|來源 中國超硬材料網
摘要 隨著半導體技術的飛速發展,化學機械拋光(CMP)作為一項關鍵工藝,承擔著集成電路制造中平整化處理的重任。CMP工藝通過機械磨削和化學反應相結合的方式,使得晶圓表面達到所需的平整度,...

       隨著半導體技術的飛速發展,化學機械拋光(CMP)作為一項關鍵工藝,承擔著集成電路制造中平整化處理的重任。CMP工藝通過機械磨削和化學反應相結合的方式,使得晶圓表面達到所需的平整度,以滿足后續工藝需求。傳統的CMP耗材多采用多晶金剛石,這種材料雖然價格較為經濟,但在長時間高精度加工中的耐磨性和穩定性較差。而單晶金剛石由于其優異的機械強度和化學惰性,逐漸被認為是替代多晶金剛石的理想材料。通過激光切割的單晶金剛石盤,不僅在微觀結構上表現出更均勻的切削能力,同時具備更長的使用壽命和更高的工藝穩定性。

       近日,Morglory公司推出新一代單晶金剛石盤(disks),這標志著全球領先的單晶金剛石技術進入CMP工藝應用市場。新一代單晶金剛石盤的誕生,源自于先進的單晶金剛石制造技術。傳統的CMP耗材產品主要依賴多晶合成金剛石。然而,最新推出的單晶金剛石盤通過精確的激光切割技術,實現了極致的金字塔尖端結構。這一結構不僅增強了盤的耐用性和耐磨性,還能在加工過程中提供更加穩定的切削力,大幅提高了CMP工藝的精度和效率。

       其中,單晶金剛石激光切割技術是這一突破的關鍵。該技術確保了每個金剛石頂點的高度、角度和間距特性完全可控且穩定。此外,還可根據客戶的具體需求進行定制設計與生產,提供多樣化的CMP工藝優化解決方案。

       目前,這一新一代單晶金剛石盤已在多家半導體工藝制造商中進入試用階段。其研磨效果在頂點高度、角度和間距的均勻性等方面表現出了極高的精度和穩定性,并獲得了初步的積極反饋。未來,這款產品預計將在全球半導體工藝應用市場進一步推廣,為全球半導體行業的技術升級提供強有力的支持。

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