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微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜　　

關鍵詞微波法 , 低溫沉積 , 細晶粒金剛石薄膜　　 |2010-12-09 00:00:00|行業專利|來源中國超硬材料網

摘要名稱微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜公開號1066299公開日1992.11.18主分類號C23C16/26&n

名稱	微波法低溫沉積細晶粒金剛石薄膜
公開號	1066299	公開日	1992.11.18
主分類號	C23C16/26	分類號	C23C16/26;C23C16/48
申請號	91102584.7
分案原申請號		申請日	1991.04.28
頒證日		優先權
申請人	北京科技大學	地址	100083北京市學院路30號
發明人	楊保雄; 呂反修; 蔣高松; 葉銳曾	國際申請
國際公布		進入國家日期
專利代理機構	北京科技大學專利代理事務所	代理人	劉月娥
摘要	本發明提供了一種用化學氣相沉積工藝沉積可用于光學及電學領域的金剛石薄膜技術。其特征在于工作氣體中含有０．１—１０％的高純氧氣，０．１— １０％的高純甲烷，剩余為高純氫氣，工作氣體的壓力為１—１００τ，在金剛石膜沉積過程中微波功率為１００—５００瓦。本發明的優點在于工藝簡單、重復性強，突破了金剛石薄膜的應用領域，可用于光學、電學領域。

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