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官方微信摘要 名稱直流電弧噴射沉積金剛石裝置公開號2139581公開日1993.08.04主分類號C23C16/26
| 名稱 | 直流電弧噴射沉積金剛石裝置 | ||
| 公開號 | 2139581 | 公開日 | 1993.08.04 |
| 主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26;C23C16/50 |
| 申請?zhí)?/strong> | 92236738.8 | ||
| 分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | ||
| 頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
| 申請人 | 北京理工大學(xué) | 地址 | 100081北京市海淀區(qū)白石橋路7號 |
| 發(fā)明人 | 李榮志; 丁洪生; 朱鶴孫; 閻震 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進(jìn)入國家日期 | ||
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 北京理工大學(xué)專利事務(wù)所 | 代理人 | 付雷杰 |
| 摘要 | 一種直流電弧噴射沉積金剛石的裝置，由真空室、裝在真空室上的帶由噴槍體支承的陰極、陽極的噴射裝置及鍍膜基底組成，陰極和陽極之間裝有一個(gè)以上屏蔽罩，屏蔽罩底部裝有屏蔽噴嘴，該屏蔽噴嘴有約束電弧等離子體和穩(wěn)定電極上的電弧斑點(diǎn)的作用，從而不需要很大原料氣體流量，原料氣體通過電弧放電區(qū)距離長，這種裝置沉積金剛石效果好。 | ||
豫公網(wǎng)安備41019702003646號