名稱 | 納米金剛石薄膜的制備裝置 | ||
公開號 | 1332268 | 公開日 | 2002.01.23 |
主分類號 | C23C16/27 | 分類號 | C23C16/27;C23C16/50 |
申請?zhí)?/strong> | 01126358.X | ||
分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 2001.07.27 | |
頒證日 | 優(yōu)先權(quán) | ||
申請人 | 中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究 | 地址 | 201800上海市800-211郵政信箱 |
發(fā)明人 | 龔輝;范正修 | 國際申請 | |
國際公布 | 進(jìn)入國家日期 | ||
專利代理機構(gòu) | 上海華東專利事務(wù)所 | 代理人 | 李蘭英 |
摘要 | 一種納米金剛石薄膜的制備裝置,主要適用于在硅基板上制備大面積均勻納米金剛石薄膜。它包括帶有進(jìn)氣口和抽氣口的反應(yīng)爐體,反應(yīng)爐體內(nèi)充有氫氣和甲烷的混合氣體,并置有相互平行置放的正極板和負(fù)極板,在正極板和負(fù)極板處分別置有熱絲和基板。正與負(fù)極板之間連接有啟輝器和電壓調(diào)節(jié)器。當(dāng)正負(fù)兩極板之間的啟輝器產(chǎn)生瞬間高壓時,激活了反應(yīng)爐體內(nèi)的氫氣和甲烷的混合氣體,產(chǎn)生等離子體,調(diào)節(jié)正負(fù)兩極板間的電壓調(diào)節(jié)器,控制兩極板之間的電流恒定,致使反應(yīng)爐體內(nèi)的等離子體活化區(qū)穩(wěn)定。用本發(fā)明的制備裝置生長出的納米金剛石薄膜比在先技術(shù)生長的薄膜晶粒尺寸小、表面粗糙度小、內(nèi)應(yīng)力小、面積大而均勻 |