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采用熱絲化學氣相沉積法研究鑲嵌單晶金剛石晶片上硼摻雜層的水平和垂直均勻性

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為了開發英寸級金剛石加工技術,采用熱絲化學氣相沉積(CVD)技術在鑲嵌單晶金剛石片上生長了硼摻雜層,與微波等離子...

日期 2022-06-08   
一種在工件內孔沉積金剛石薄膜的熱絲化學氣相沉積裝置

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申請號:201620932071.X申請人:中國科學院金屬研究所發明人:姜辛劉魯生黃楠楊兵翟超峰李俊豪賈心怡摘要...

日期 2017-02-28   

多元摻雜熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

專利號:201210085095申請人:上海交通大學;上海交友鉆石涂層有限公司技術簡要說明:本發明公開了一種多元摻雜熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

日期 2012-08-03   
熱絲化學氣相沉積(HFCVD)制備金剛石薄膜技術

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河南工業大學材料科學與工程學院楊德威栗正新導讀:本文簡要闡述了熱絲CVD制備金剛石薄膜的技術原理,探討了影響金剛...

日期 2012-04-14   

回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法

名稱回旋電子增強熱絲化學氣相沉積制備金剛石薄膜的方法公開號1355330公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法

名稱光子-熱絲化學氣相沉積生長大面積金剛石薄膜的方法公開號1355329公開日2002.06.26主分類號C23C1

日期 2010-12-21   

一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設備

名稱一種熱絲化學氣相沉積金剛石的設備公開號2283067公開日1998.06.03主分類號C23C16/26&nbs

日期 2010-12-21   

一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設備

名稱一種大面積高速度熱絲化學氣相沉積金剛石的方法及設備公開號1160089公開日1997.09.24主分類號C23C

日期 2010-12-10   
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