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我國半導(dǎo)體制造材料業(yè)已走向發(fā)展快車道

2017-09-12 15:48:56|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 黨的十八大以來,隨著半導(dǎo)體企業(yè)與市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的融合,我國集成電路設(shè)計(jì)、分立器件制造、封裝、測(cè)試等領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展日新月異,半導(dǎo)體制造材料產(chǎn)業(yè)步入了加速發(fā)展的新階段,取得顯著成績。第一,我...
   黨的十八大以來,隨著半導(dǎo)體企業(yè)與市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)的融合,我國集成電路設(shè)計(jì)、分立器件制造、封裝、測(cè)試等領(lǐng)域的技術(shù)發(fā)展日新月異,半導(dǎo)體制造材料產(chǎn)業(yè)步入了加速發(fā)展的新階段,取得顯著成績。
   第一,我國半導(dǎo)體制造材料技術(shù)和產(chǎn)品質(zhì)量取得長足發(fā)展。五年前,我國8~12英寸集成電路制造用材料幾乎全部依賴進(jìn)口。在02專項(xiàng)重點(diǎn)支持和國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金及扶持集成電路產(chǎn)業(yè)優(yōu)惠政策的帶動(dòng)下,材料企業(yè)自主研發(fā)投入逐年增加,取得了非常明顯的成果。安集微電子所生產(chǎn)的銅/銅阻擋層拋光液及系列產(chǎn)品,江豐電子開發(fā)的鋁、鈦、銅、鉭靶材,中船718所生產(chǎn)的NF3、WF6等產(chǎn)品已經(jīng)進(jìn)入國內(nèi)外集成電路生產(chǎn)線,并在先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)實(shí)現(xiàn)批量應(yīng)用,產(chǎn)品能夠覆蓋130nm~28nm技術(shù)節(jié)點(diǎn)要求;南大光電開發(fā)的超高純磷烷、砷烷及安全源產(chǎn)品已開始批量供應(yīng)國內(nèi)8~12英寸集成電路生產(chǎn)線和LED行業(yè);200mm硅片、區(qū)熔硅單晶片等項(xiàng)目相繼通過驗(yàn)收,浙江金瑞泓、有研半導(dǎo)體、天津環(huán)歐等在當(dāng)前硅片供應(yīng)緊張的情況下也都有較好的市場(chǎng)表現(xiàn);上海新陽、浙江凱圣、湖北興福、蘇州晶瑞等公司的超高純工藝化學(xué)品也都進(jìn)入或正在進(jìn)入8~12英寸集成電路線。南大光電、上海新陽、江陰江化微、江豐電子、蘇州晶瑞等一批集成電路材料企業(yè)成功在主板或創(chuàng)業(yè)板上市,為企業(yè)創(chuàng)新發(fā)展打開新通道。
   第二,政策支持推動(dòng)我國材料行業(yè)快速發(fā)展。為了落實(shí)國務(wù)院的經(jīng)濟(jì)部署,貫徹集成電路產(chǎn)業(yè)穩(wěn)增長計(jì)劃方案,促進(jìn)集成電路行業(yè)相關(guān)企業(yè)的研發(fā)創(chuàng)新和轉(zhuǎn)型升級(jí),有關(guān)部委發(fā)布《集成電路生產(chǎn)企業(yè)進(jìn)口自用生產(chǎn)性原材料、消耗品免稅商品清單》,清單中所列商品根據(jù)國內(nèi)產(chǎn)業(yè)發(fā)展?fàn)顩r,每年進(jìn)行調(diào)整。該項(xiàng)政策的實(shí)施為國內(nèi)集成電路材料產(chǎn)業(yè)營造公平競(jìng)爭(zhēng)環(huán)境發(fā)揮了重要作用,為國內(nèi)半導(dǎo)體材料企業(yè)開拓了更為寬廣的發(fā)展空間。工信部會(huì)同財(cái)政部、保監(jiān)會(huì)開展新材料首批次應(yīng)用保險(xiǎn)補(bǔ)償機(jī)制試點(diǎn)工作,也為集成電路材料新產(chǎn)品進(jìn)入市場(chǎng)提供了幫助。
   第三,技術(shù)創(chuàng)新開啟國際市場(chǎng)新局面。我國部分企業(yè)的技術(shù)水平、產(chǎn)品品質(zhì)及管理體系已與國際先進(jìn)技術(shù)節(jié)點(diǎn)相匹配,部分產(chǎn)品開始融入國際市場(chǎng),例如CMP的拋光材料、濺射靶材、先進(jìn)封裝工藝用底填料等憑借獨(dú)特的技術(shù)優(yōu)勢(shì)進(jìn)入國際市場(chǎng);40~28nm節(jié)點(diǎn)工藝用12英寸硅片正在開發(fā)當(dāng)中,預(yù)計(jì)2017年年底將形成月15萬片生產(chǎn)能力,2020年將有望達(dá)到14nm集成電路制造技術(shù)要求;已建成248nm光刻膠工程化技術(shù)平臺(tái),系列化產(chǎn)品正在開發(fā)當(dāng)中;系列化高K介質(zhì)前驅(qū)體等也取得突破性進(jìn)展,正在開拓國內(nèi)外高端客戶。
 

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