| 名稱 | 形成金剛石膜的方法 | ||
| 公開號 | 1121963 | 公開日 | 1996.05.08 |
| 主分類號 | C23C14/40 | 分類號 | C23C14/40;C01B31/06 |
| 申請號 | 95108952.8 | ||
| 分案原申請號 | 申請日 | 1995.07.18 | |
| 頒證日 | 優先權 | [32]1994.7.18[33]JP[31]165182/94 | |
| 申請人 | 佳能株式會社 | 地址 | 日本東京 |
| 發明人 | 平林敬二; 吉川俊明 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 | 代理人 | 徐汝巽 |
| 摘要 | 一種通過高頻等離子體ＣＶＤ方法形成金剛石膜的方法，使用了電感耦合放電，并將高頻波的頻率設定在４０—２５０ＭＨｚ之間，由此將含碳的原料氣體分解為等離子體狀態，以在基體上形成金剛石膜。 | ||
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