在超寬帶隙半導體領域，研究者們正致力于開發具有超高增益的深紫外（DUV）光電探測器，以期達到與光電倍增管（PMT）相媲美的性能。這些探測器對于200-280納米波長范圍內的日盲檢測和通信至關重要，因為它們能夠提供高靈敏度、高速度、高光譜選擇性、高信噪比和高穩定性。然而，現有的基于超寬帶隙半導體的探測器，如AlGaN和Ga2O3，面臨著高工作電壓、高晶格缺陷密度、相偏析問題以及對磁場敏感性等挑戰，限制了它們在性能上的進一步發展。

       金剛石作為一種具有超寬帶隙、高熱導率、化學惰性、高絕緣性和輻射抗性的材料，被認為是制造DUV光電探測器的理想候選材料。金剛石基光電探測器的發展已經取得了一定的進展，但靈敏度和整體性能仍需進一步提升，以滿足實際應用的需求。研究者們正在探索通過表面狀態和深層缺陷的協同效應，實現在低電壓下工作的超高增益DUV光電探測器，以期解決單片集成的挑戰，并推動與集成電路兼容的DUV探測器技術的發展。

       日本國立材料研究所廖梅勇團隊證明了利用Ib型單晶金剛石（SCD）襯底表面態和深層缺陷的協同效應，可以實現低工作電壓（<5 V）的超高增益DUV光電探測器（PD）。金剛石DUV- PD的整體光響應，如靈敏度、暗電流、光譜選擇性和響應速度，可以通過SCD襯底表面的氫或氧終止來簡單地定制。在220 nm光下，DUV響應率和外量子效率分別超過2.5 × 104A/W和1.4 × 107%，與PMT相當。DUV/可見光抑制比（R220 nm/R400 nm）高達6.7 × 105。深氮缺陷耗盡二維空穴氣體提供了低暗電流，在DUV照射下電離氮的填充產生了巨大的光電流。表面態和本體深度缺陷的協同效應為開發與集成電路兼容的DUV探測器開辟了道路。

       相關成果以題為“Synergistic Effect of Surface States and Deep Defects for Ultrahigh Gain Deep-Ultraviolet Photodetector with Low-Voltage Operation”發表在Advanced Functional Materials。

圖1 能帶圖和表面電導率。

圖2 光電探測器在暗光和DUV光下的I-V特性。

圖3 光響應特性與氧化時間的關系。

圖4 光子晶體的時變光響應。