主要性能指標(biāo):納米涂層晶粒≤20nm、類金剛石晶粒度≤50nm、涂層硬度HV:3500~5000、涂層厚度2~4μm、涂層厚度偏差±10%、涂層結(jié)合力55~70N
關(guān)鍵技術(shù)裝備:鈀材成份、涂層材料沉積控制、沉積晶粒生長控制和涂層沉積定向控制技術(shù),石墨鈀材純度、致密和均勻性設(shè)計(jì),類金剛石組織結(jié)構(gòu)控制技術(shù),涂層與基體結(jié)合強(qiáng)度的制造技術(shù),涂層前、后處理裝備,鈀材涂層精密控制涂層裝備
主要應(yīng)用領(lǐng)域:航空、汽車、電子
氮化硼陶瓷
主要性能指標(biāo):六方BN 和立方BN,氬氣下最高使用溫度2600℃,熱傳導(dǎo)率25.1W/(m·K)
關(guān)鍵技術(shù)裝備:超薄、超大尺寸精細(xì)石英陶瓷水基注凝成型技術(shù)、薄壁大尺寸多孔陶瓷冷等靜壓近凈尺寸成型技術(shù)、高性能連續(xù)氮化硼纖維的規(guī)模化制備技術(shù)
主要應(yīng)用領(lǐng)域:各種熔融體的加工材料及玻璃成型用的器具、熱電偶保護(hù)管、高頻電絕緣材料
高品級金剛石
主要性能指標(biāo):黃色透明、雜質(zhì)含量少、高硬度、高耐磨、高熱導(dǎo)率金剛石單晶,粒徑>2mm 單晶以及微米和納米級高純度單晶;合成金剛石用200目和320目觸媒粉等原輔材料;直徑120~150mm 高品級CVD 膜片;直徑>46mm PCD 高品級復(fù)合片
關(guān)鍵技術(shù)裝備:6×42MN 及更大的專用六面頂壓機(jī)、壓機(jī)精密數(shù)控裝置及合成技術(shù);75~100kW 大功率金剛石膜生產(chǎn)設(shè)備及沉積技術(shù);高純度觸媒粉霧化設(shè)備及工藝技術(shù)
主要應(yīng)用領(lǐng)域:石材、建材、建筑工程、電子信息、航空航天、LED 照明、地質(zhì)勘探、石油天然氣鉆井等
高品級立方氮化硼
主要性能指標(biāo):高硬度、高耐磨、高熱導(dǎo)率立方氮化硼單晶,粒度>40目單晶以及微米和納米級高純度單晶;直徑>46mm PCBN 高品級復(fù)合片
關(guān)鍵技術(shù)裝備:6×42MN 及更大的專用六面頂壓機(jī)、壓機(jī)精密數(shù)控裝置及合成技術(shù)
主要應(yīng)用領(lǐng)域:飛機(jī)、汽車、軋鋼、數(shù)控機(jī)床、新能源等
高效精密超硬材料制品
主要性能指標(biāo):滿足高效精密加工需求的切、削、磨、鉆、研、拋等工具及耐磨、散熱、透光、抗輻射等功能性器件
關(guān)鍵技術(shù)裝備:超硬材料有序排列布料、高效精密激光焊接、高效精密成型等技術(shù)及裝備
主要應(yīng)用領(lǐng)域:裝備制造、新能源、航空航天、汽車、建筑工程