稀土化合物漿料及金剛石厚膜的表面刻蝕方法
關(guān)鍵詞 稀土化合物 , 漿料 , 金剛石 , 厚膜 , 表面刻蝕|2010-12-10 00:00:00|行業(yè)專利|來源 中國超硬材料網(wǎng)
摘要 名稱稀土化合物漿料及金剛石厚膜的表面刻蝕方法公開號1258765公開日2000.07.05主分類號C30B33/08
名稱 |
稀土化合物漿料及金剛石厚膜的表面刻蝕方法 |
公開號 |
1258765 |
公開日 |
2000.07.05 |
主分類號 |
C30B33/08 |
分類號 |
C30B33/08 |
申請?zhí)?/strong> |
99124562.8 |
分案原申請?zhí)?/strong> |
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申請日 |
1999.12.10 |
頒證日 |
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優(yōu)先權(quán) |
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申請人 |
吉林大學(xué) |
地址 |
130012吉林省長春市朝陽區(qū)前衛(wèi)路10號 |
發(fā)明人 |
王佳宇; 陳宏宇; 白亦真; 金曾孫 |
國際申請 |
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國際公布 |
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進(jìn)入國家日期 |
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專利代理機(jī)構(gòu) |
吉林大學(xué)專利事務(wù)所 |
代理人 |
王恩遠(yuǎn) |
摘要 |
本發(fā)明屬金剛石厚膜的表面刻蝕方法。采用稀土化合物漿料,如以氧化鈰和硝酸鑭為原料的漿料,印刷于金剛石厚膜生長面,再經(jīng)400~600℃燒結(jié)2~5小時,最后用濃硫酸清洗。漿料是將原料與溶劑混合研磨再加調(diào)和劑配制而成。本發(fā)明原料便宜用量少,可刻蝕工藝簡單,不需要真空高溫的苛刻條件和復(fù)雜設(shè)備,成本降低;刻蝕效果好,能減小機(jī)械拋光時間;漿料絲網(wǎng)印刷可圖形化。這些都利于金剛石厚膜在電子封裝領(lǐng)域中的應(yīng)用。 |
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