名稱 | 在顆粒上包覆金剛石樣碳的方法與設備 | ||
公開號 | 1279729 | 公開日 | 2001.01.10 |
主分類號 | C23C16/44 | 分類號 | C23C16/44 |
申請號 | 98811433.X | ||
分案原申請號 | 申請日 | 1998.10.07 | |
頒證日 | 優先權 | 1997.11.26 US 08/979,072 | |
申請人 | 美國3M公司 | 地址 | 美國明尼蘇達州 |
發明人 | M·M·戴維 | 國際申請 | PCT.US98/21111 1998.10.7 |
國際公布 | WO99.27157 英 1999.6.3 | 進入國家日期 | 2000.05.22 |
專利代理機構 | 上海專利商標事務所 | 代理人 | 余穎 |
摘要 | 本發明涉及一種金剛石樣碳包覆顆粒的制備方法,所述金剛石樣覆層可以包含其他組分。所述方法包括:在真空射頻電源電容耦合反應器系統內令眾多顆粒與碳等離子體接觸,在所述系統內,在電極周圍形成離子鞘,攪拌顆粒的方式使它們的表面與等離子體內的反應性物質接觸,同時顆粒基本上處于離子鞘內。本發明的優點在于:(i)以高沉積率在顆粒上有效沉積DLC,(ii)沉積致密的 DLC覆層;(iii)能夠在DLC沉積前用含氧和含氬等離子體通過離子轟擊原位進行顆粒的表面清潔;和(iv)能夠在包覆過程中通過調整覆層的組成和離子轟擊的密度改變覆層的整體和表面性能。 |