| 名稱 | 制備類金剛石薄膜的電化學沉積方法及其裝置 | ||
| 公開號 | 1205367 | 公開日 | 1999.01.20 |
| 主分類號 | C25D9/08 | 分類號 | C25D9/08 |
| 申請號 | 97111993.7 | ||
| 分案原申請號 | 申請日 | 1997.07.10 | |
| 頒證日 | 優先權 | ||
| 申請人 | 北京理工大學 | 地址 | 100081北京市海淀區白石橋路7號 |
| 發明人 | 汪浩; 朱鶴孫 | 國際申請 | |
| 國際公布 | 進入國家日期 | ||
| 專利代理機構 | 北京理工大學專利事務所 | 代理人 | 付雷杰 |
| 摘要 | 一種類金剛石薄膜的新制備方法，采用電化學沉積技術，以高頻脈沖調制直流高壓電源提供能量，選擇甲醇作為電沉積溶液，在液相中制備出了類金剛石薄膜。這種薄膜是不含氫的具有非晶結構的類金剛石碳膜，具有一定的耐化學腐蝕能力，其電阻率在１０#+[７]Ω．cm量級，顯微硬度在１２～１５ＧＰa之間。由于該方法具有沉積溫度低，成膜均勻性好，反應條件容易控制，設備簡單的特點，因此有很好的應用前景 | ||
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