申請(qǐng)?zhí)? 201720267999.5

申請(qǐng)日: 2017.03.20

國(guó)家/省市: 中國(guó)河南(41)

主分類(lèi)號(hào): C23C 16/507(2006.01)

授權(quán)公告號(hào): 206512273U

授權(quán)公告日: 2017.09.22

分類(lèi)號(hào): C23C 16/507(2006.01)

申請(qǐng)人: 鄭州嘉晨化工科技有限公司

發(fā)明人: 皮超杰; 徐國(guó)龍; 夏震

申請(qǐng)人地址: 河南省鄭州市新鄭市龍湖鎮(zhèn)中原工學(xué)院大學(xué)科技園10號(hào)樓

摘要： 本實(shí)用新型公開(kāi)了一種金剛石薄膜的射頻等離子化學(xué)氣相沉積裝置，包括CVD反應(yīng)室，所述CVD反應(yīng)室的內(nèi)壁上設(shè)置有磁感應(yīng)線圈，所述CVD反應(yīng)室的底部設(shè)置有反應(yīng)臺(tái)，所述反應(yīng)臺(tái)的頂部設(shè)置有升降臺(tái)，所述升降臺(tái)的頂部設(shè)置有基體。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置在CVD反應(yīng)室上的真空泵和壓力表，可對(duì)CVD反應(yīng)室內(nèi)的壓力進(jìn)行控制，使CVD反應(yīng)室的壓力保持在0.13Pa左右，在負(fù)偏壓作用下沉積到基體上形成金剛石薄膜，在低壓下生成的金剛石薄膜，厚度均勻、生產(chǎn)效率高、沉積速率高、穩(wěn)定性好、可調(diào)性和重復(fù)性好，保證金剛石薄膜的質(zhì)量，通過(guò)設(shè)置的均速?lài)姎鈬婎^，可將射頻等離子發(fā)生器內(nèi)的等離子均速?lài)娫诨w上，有效提高基體上形成的金剛石薄膜厚度均勻性和穩(wěn)定性。

主權(quán)利要求

1.一種金剛石薄膜的射頻等離子化學(xué)氣相沉積裝置，包括CVD反應(yīng)室(1)和反應(yīng)氣體混合器(4)，其特征在于：所述CVD反應(yīng)室(1)的內(nèi)壁上設(shè)置有磁感應(yīng)線圈(2)，所述CVD反應(yīng)室(1)的底部設(shè)置有反應(yīng)臺(tái)(3)，所述反應(yīng)臺(tái)(3)的頂部設(shè)置有升降臺(tái)(14)，所述升降臺(tái)(14)的頂部設(shè)置有基體(13)，所述基體(13)和升降臺(tái)(14)之間設(shè)置有襯底(12)，所述反應(yīng)氣體混合器(4)通過(guò)管道連接有甲烷氣體罐(6)和氫氣罐(7)，所述甲烷氣體罐(6)和氫氣罐(7)與反應(yīng)氣體混合器(4)之間均設(shè)置有流量計(jì)，所述反應(yīng)氣體混合器(4)的出口通過(guò)管道連接有射頻等離子發(fā)生器(8)，所述射頻等離子發(fā)生器(8)通過(guò)波導(dǎo)(9)與CVD反應(yīng)室(1)連接。