申請號：201210414215

　　申請人：南昌航空大學

　　摘要：一種Ni-P-金剛石-TiAlN耐磨減磨復合涂層及其制備方法，首先采用光亮化學復合鍍的方法制備Ni-P-金剛石復合鍍層，使其P和金剛石含量分別為15-10wt%和10-20wt%，鍍層厚度為10-20微米，所用金剛石微粒的直徑5-10微米，然后在該Ni-P-金剛石鍍層表面用電弧離子鍍的方法沉積TiAlN涂層，使該TiAlN層的厚度為5-10微米，Al含量為15-25wt%；本發明所得涂層耐磨性高、使用壽命長，在使Ni-P-金剛石-TiAlN復合涂層與45號鋼長時間摩擦磨損的過程中，摩擦系數始終保持在0.2以下，磨損壽命是常規Ni-P-金剛石化學復合鍍層的2-5倍以上；并且本發明制備方法簡單，成本低，具有非常好的推廣應用價值。

　　獨立權利要求：1.一種Ni-P-金剛石-TiAlN耐磨減磨復合涂層，其特征在于所述復合涂層包括Ni-P-金剛石復合鍍層和TiAlN涂層，其中Ni-P-金剛石復合鍍層厚度為10-20微米，其組份中P、金剛石和Ni含量分別為5-10wt%、10-20wt%和70-85wt%，金剛石微粒的直徑為5-10微米；其中TiAlN涂層厚度為5-10微米，其組份中Ti、Al和N含量分別為47-62wt%、15-25wt%和24-27wt%。

　　2.如權利要求1所述的一種Ni-P-金剛石-TiAlN耐磨減磨復合涂層的制備方法，其特征在于所述的制備方法包括以下步驟： （1）采用光亮化學復合鍍的方法制備Ni-P-金剛石復合鍍層； （2）采用電弧離子鍍的方法在Ni-P-金剛石復合鍍層表面制備TiAlN涂層。