名稱 | 復雜形狀CVD金剛石/類金剛石復合涂層刀具制備方法 | ||
申請號 | 201210124337 | 申請日 | 2012年4月25日 |
公開號 | 102650053A | 公開日 | 2012年8月29日 |
申請人 | 上海交通大學 上海澳尼森特種表面處理技術有限公司 | 地址 | 上海市閔行區東川路800號 |
發明人 | 沈彬 孫方宏 阮華權 顧寶龍 張志明 | 主分類號 | C23C 28/04 |
國家/省市 | 中國上海( 31 ) | 分類號 | C23C 28/04 C23C 16/44 C23C 16/27 C23C 14/35 C23C 14/06 |
摘要 | 本發明公開了一種復雜形狀CVD金剛石/類金剛石復合涂層刀具的制備方法。采用熱絲CVD法在刀具表面沉積一層MCD薄膜,在沉積過程中采用負偏壓產生離子轟擊保證MCD薄膜具有光滑表面;隨后繼續沉積一層DLC薄膜,在初始階段,用正負脈沖離子電源對涂覆了MCD薄膜的刀具表面進行離子轟擊,以清除刀具表面的雜質,并去除涂層表面尖銳的晶粒棱角,增加涂層平整度,提高涂層表面活性,達到增強層間附著強度的效果。采用本發明的制備方法能夠在具有復雜形狀表面的整體式硬質合金刀具表面沉積獲得具有優異膜-基附著強度、表面耐磨減摩及自潤滑特性的CVD金剛石/類金剛石復合涂層,該復合涂層還具有內應力低、表面光滑平整、厚度均勻等特點。 | ||
獨立權利要求 | 1.一種復雜形狀CVD金剛石/類金剛石復合涂層刀具制備方法,其特征在于,包括如下步驟:步驟一:采用熱絲CVD法在經過預處理后的復雜形狀整體式硬質合金刀具表面沉積一層MCD薄膜;步驟二:采用磁控等離子濺射法在涂覆了MCD薄膜的涂層刀具表面繼續沉積一層DLC薄膜,即可。 |
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