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摘要 項(xiàng)目介紹：隨著激光器性能的不斷提高，在眾多的薄膜制備方法中，PLD技術(shù)的應(yīng)用最為廣泛，可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，...
項(xiàng)目介紹：
隨著激光器性能的不斷提高，在眾多的薄膜制備方法中，PLD技術(shù)的應(yīng)用最為廣泛，可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等，并取得了很大的成功。
工作原理：
在制膜腔內(nèi)，用透鏡將一束強(qiáng)脈沖激光匯聚成一個(gè)很小的光斑，打在靶材料上，受到激光光斑照射的靶材料瞬時(shí)被氣化、電離，形成一團(tuán)等離子體，高速向外噴射，從而在襯底上沉積形成一層薄膜。
系統(tǒng)構(gòu)成：
?。?）、準(zhǔn)分子激光器
（2）、PLD沉積系統(tǒng)
豫公網(wǎng)安備41019702003646號(hào)