名稱 | 納米引晶法選擇性生長金剛石膜的工藝 | ||
公開號 | 1235206 | 公開日 | 1999.11.17 |
主分類號 | C23C16/26 | 分類號 | C23C16/26 |
申請號 | 99104646.3 | ||
分案原申請號 | 申請日 | 1999.05.08 | |
頒證日 | 優先權 | ||
申請人 | 吉林大學 | 地址 | 130012吉林省長春市朝陽區前衛路10號 |
發明人 | 劉洪武; 高春曉; 李迅; 王成新; 鄒廣田 | 國際申請 | |
國際公布 | 進入國家日期 | ||
專利代理機構 | 吉林大學專利事務所 | 代理人 | 王恩遠; 崔麗娟 |
摘要 | 本發明屬納米引晶法選擇性生長金剛石膜的工藝。包括清洗襯底、蒸鍍掩膜、涂膠、光刻、去膠、引晶、去掩膜和生長金剛石膜過程。襯底是硅、Si#-[3] N#-[4]或Mo,其表面蒸鍍SiO#-[2]或Mo作掩膜,經光刻形成所需圖形。再在納米金剛石微粉的膠體溶液中引晶。去掩膜后用熱燈絲CVD方法在有晶種的區域生長金剛石膜。本發明的工藝,選擇比高、金剛石膜生長速度快、圖形完整、對襯底無損傷、可在多種襯底上實現大面積均勻的選擇性生長,適于在微電子領域廣泛應用。 |