名稱 | 在液體表面生長金剛石晶體的方法 | ||
公開號 | 1215766 | 公開日 | 1999.05.05 |
主分類號 | C30B29/04 | 分類號 | C30B29/04 |
申請?zhí)?/strong> | 97119937.X | ||
分案原申請?zhí)?/strong> | 申請日 | 1997.10.29 | |
頒證日 | 優(yōu)先權 | ||
申請人 | 方寶賢 | 地址 | 650091云南省昆明市121大街天君殿巷9幢501號 |
發(fā)明人 | 方寶賢 | 國際申請 | |
國際公布 | 進入國家日期 | ||
專利代理機構 | 云南省專利事務所 | 代理人 | 張怡 |
摘要 | 本發(fā)明涉及到晶體生長,尤其是金剛石晶體的生長方法。本發(fā)明所述方法是用碳源在可防止氧化的氣體里,在金屬液態(tài)襯底表面上生長金剛石晶體。在本申請中,作為襯底的金屬是與碳沒有反應、不形成合金的,如Ge、Cu、Ga、In、Sn、Al等,也可以是它們的合金。本申請中,形成剛晶的溫度范圍為400—1500℃。用液態(tài)襯底的特點是改善目前生長金剛石晶體的結果而制造大單晶金剛石,特別做電子材料及光學材料。 |