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鍺硅紅外光學鏡頭鍍類金剛石碳膜

關鍵詞 鍺硅 , 紅外光學 , 金剛石碳膜 |2010-12-09 00:00:00|行業專利|來源 中國超硬材料網
摘要 名稱鍺硅紅外光學鏡頭鍍類金剛石碳膜公開號1033653公開日1989.07.05主分類號C23C14/06

 

名稱 鍺硅紅外光學鏡頭鍍類金剛石碳膜 
公開號 1033653  公開日 1989.07.05 
主分類號 C23C14/06  分類號 C23C14/06;C23C14/40;G02B1/10 
申請號 87105946.0 
分案原申請號   申請日 1987.12.22   
頒證日   優先權  
申請人 昆明物理研究所    地址 云南省昆明市北郊教場東路32號  
發明人 李忠奇; 劉成贊; 李正芬; 左名光; 金惠忠  國際申請  
國際公布   進入國家日期  
專利代理機構 云南省專利事務所  代理人 李燦 
摘要   本工藝發明屬于在鍺硅光學鏡頭(片)上鍍紅外超硬膜技術。是在濺射機中,充入丁烷和氬氣的混合氣體,選擇適當的射頻電壓產生輝光放電,使混合氣體電離,在電場作用下,使正離子撞擊到負電極上沉積薄膜的方法,從而使鍺 硅鏡頭(片)上獲得類金剛石超硬膜。$本發明所鍍制出的膜屬類金剛石碳膜,它具有機械強度高,耐磨性能好,紅外光學特性優良,且適于鍍制大面積光學透鏡等優點。適用于一切紅外光學鏡頭(片)及光學儀器窗口材料的鍍制。
 

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