名稱 | 超細氮化硅微粉氣相合成新工藝 | ||
公開號 | 1280955 | 公開日 | 2001.01.24 |
主分類號 | C01B21/068 | 分類號 | C01B21/068 |
申請號 | 99109605.3 | ||
分案原申請號 | 申請日 | ||
頒證日 | 優先權 | ||
申請人 | 劉慶昌 | 地址 | 050011河北省石家莊市建設南大街24號 |
發明人 | 劉慶昌 | 國際申請 | |
國際公布 | 進入國家日期 | ||
專利代理機構 | 河北省專利事務所 | 代理人 | 王苑祥 |
摘要 | 本發明是一種制備超細氮化硅微粉的氣相合成新工藝,新工藝中采取直流等離子弧為熱源的密閉反應容器中完成氣相合成,所采用的基料為四氯化硅和氨,兩者按1∶1.5—1.9比例(單位時間內注入液態重量比)注入反應器,在反應器內完成氣相合成,并借助自由沉降過程中淬冷直接變成固態微粉,反應器內借助調控等離子體發生器輸功率和N#-[2]、H#-[2]比例穩定離子弧,并保持反應溫度在1000℃—1500℃之間,經淬冷細化的微粉經加熱后處理去除氯化物雜質生成高純度納米級的Si#-[3]N#-[4]微粉。 |